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輝光放電光譜質(zhì)譜測(cè)試檢測(cè)檢驗(yàn)認(rèn)證測(cè)試

2023-06-15

輝光放電光譜質(zhì)譜檢測(cè)有哪些參考依據(jù)?檢測(cè)標(biāo)準(zhǔn)有哪些?費(fèi)用是多少?百檢檢測(cè)可依據(jù)相關(guān)標(biāo)準(zhǔn)制定試驗(yàn)方案。對(duì)痕量和微量合金元素等項(xiàng)目進(jìn)行檢測(cè)分析。并出具嚴(yán)謹(jǐn)公正的檢測(cè)報(bào)告。

項(xiàng)目簡(jiǎn)介

輝光放電光譜

1.測(cè)量時(shí)顯示時(shí)間-強(qiáng)度曲線,是客觀的,客觀體現(xiàn)隨濺射時(shí)間的增加元素強(qiáng)度的變化;

2.測(cè)量后根據(jù)校準(zhǔn)曲線擬合轉(zhuǎn)換成深度-百分含量曲線;

輝光放電質(zhì)譜:

可得到元素半定量數(shù)據(jù)。由于其可以直接固體進(jìn)樣,已成為無(wú)機(jī)固體材料,尤其是高純金屬、合金等材料雜質(zhì)成分分析的強(qiáng)有力方法。

適用樣品

金屬材料、涂(鍍)層材料和均相材料化學(xué)成分的分析,痕量和微量合金元素的檢測(cè)和測(cè)量。

樣品要求:塊體直徑20-65mm,*佳厚度5-15mm,不超過(guò)40mm,導(dǎo)體材料;粉體材料,2g以上;表面粗糙度不大于 3.2,越光滑越好

相關(guān)參考標(biāo)準(zhǔn)

GB/T 37211.3-2022 金屬鍺化學(xué)分析方法 第3部分:痕量雜質(zhì)元素的測(cè)定 輝光放電質(zhì)譜法

GB/T 36590-2018 高純銀化學(xué)分析方法 痕量雜質(zhì)元素的測(cè)定 輝光放電質(zhì)譜法

GB/T 34209-2017 不銹鋼 多元素含量的測(cè)定 輝光放電原子發(fā)射光譜法

GB/T 33236-2016 多晶硅 痕量元素化學(xué)分析 輝光放電質(zhì)譜法

GB/T 32997-2016 表面化學(xué)分析 輝光放電發(fā)射光譜定量成分深度剖析的通用規(guī)程

GB/T 32996-2016 表面化學(xué)分析 輝光放電發(fā)射光譜法分析金屬氧化物膜

GB/T 31926-2015 鋼板及鋼帶 鋅基和鋁基鍍層中鉛、鎘和鉻含量的測(cè)定 輝光放電原子發(fā)射光譜法

GB/T 29559-2013 表面化學(xué)分析 輝光放電原子發(fā)射光譜 鋅和/或鋁基合金鍍層的分析

GB/T 23275-2009 釕粉化學(xué)分析方法.鉛、鐵、鎳、鋁、銅、銀、金、鉑、銥、鈀、銠、硅量的測(cè)定.輝光放電質(zhì)譜法

GB/T 22462-2008 鋼表面納米、亞微米尺度薄膜.元素深度分布的定量測(cè)定.輝光放電原子發(fā)射光譜法

辦理檢測(cè)報(bào)告的目的

1、評(píng)定產(chǎn)品質(zhì)量的好壞;

2、判斷產(chǎn)品質(zhì)量等級(jí),即缺陷嚴(yán)重程度;

3、對(duì)工藝流程進(jìn)行檢驗(yàn)和工序質(zhì)量的監(jiān)督;

4.對(duì)質(zhì)量數(shù)據(jù)進(jìn)行搜集統(tǒng)計(jì)與分析,以便為質(zhì)量改進(jìn)與質(zhì)量管理活動(dòng)的開展奠定基礎(chǔ);

檢測(cè)流程

檢測(cè)流程

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微區(qū)XRD檢測(cè)檢驗(yàn)認(rèn)證測(cè)試
氫氮氧分析測(cè)試檢測(cè)檢驗(yàn)認(rèn)證測(cè)試
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