標(biāo)準(zhǔn)簡(jiǎn)介：本標(biāo)準(zhǔn)的目的是制定一套可用于評(píng)估掩模缺陷檢查系統(tǒng)靈敏度的測(cè)試掩模。這套測(cè)試掩模包括：含特制圖形缺陷的測(cè)試芯片，以及不含特制圖形缺陷的參考測(cè)試芯片。由于測(cè)試芯片是由各種單集合而成，所以在本標(biāo)準(zhǔn)中，測(cè)試芯片是用單圖形、單圖形中的特制缺陷、以及單的布局來(lái)定義的。此外，測(cè)試掩模是通過(guò)規(guī)定測(cè)試芯片的排列來(lái)定義的。本標(biāo)準(zhǔn)還講述這套掩模的用法。

標(biāo)準(zhǔn)號(hào)：GB/T 17866-1999

標(biāo)準(zhǔn)名稱：掩模缺陷檢查系統(tǒng)靈敏度分析所用的特制缺陷掩模和評(píng)估測(cè)量方法準(zhǔn)則

英文名稱：Guideline for programmed defect masks and benchmark procedures for sensitivity analysis of mask defect inspection systems

標(biāo)準(zhǔn)類型：國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)

標(biāo)準(zhǔn)性質(zhì)：推薦性

標(biāo)準(zhǔn)狀態(tài)：現(xiàn)行

發(fā)布日期：1999-09-01

實(shí)施日期：2000-06-01

中國(guó)標(biāo)準(zhǔn)分類號(hào)（CCS）：電子元器件與信息技術(shù)>>微電路>>L56半導(dǎo)體集成電路

國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)分類號(hào)（ICS）：電子學(xué)>>31.200集成電路、微電子學(xué)

起草單位：中國(guó)科學(xué)院微電子中心

歸口單位：全國(guó)半導(dǎo)體材料和設(shè)備標(biāo)準(zhǔn)化技術(shù)委員會(huì)

發(fā)布單位：國(guó)家質(zhì)量技術(shù)監(jiān)督局

檢測(cè)流程

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