標(biāo)準(zhǔn)簡介：本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了硅外延片的產(chǎn)品分類、技術(shù)要求、試驗(yàn)方法和檢驗(yàn)規(guī)則及標(biāo)志、包裝、運(yùn)輸、貯存。本標(biāo)準(zhǔn)適用于在N型硅拋光片襯底上生長的N型外延層(N/N+)和在P型硅拋光片襯底上生長的P型外延層(P/P+)的同質(zhì)硅外延片。產(chǎn)品用于制作半導(dǎo)體器件。

標(biāo)準(zhǔn)號：GB/T 14139-1993

標(biāo)準(zhǔn)名稱：硅外延片

英文名稱：Silicon epitaxial wafers

標(biāo)準(zhǔn)類型：國家標(biāo)準(zhǔn)

標(biāo)準(zhǔn)性質(zhì)：推薦性

標(biāo)準(zhǔn)狀態(tài)：作廢

發(fā)布日期：1993-02-06

實(shí)施日期：1993-10-01

中國標(biāo)準(zhǔn)分類號（CCS）：冶金>>半金屬與半導(dǎo)體材料>>H81半金屬

國際標(biāo)準(zhǔn)分類號（ICS）：29.040.30

替代以下標(biāo)準(zhǔn)：被GB/T 14139-2009代替

起草單位：上海第二冶煉廠

歸口單位：全國半導(dǎo)體材料和設(shè)備標(biāo)準(zhǔn)化技術(shù)委員會

發(fā)布單位：國家技術(shù)監(jiān)督局

檢測流程

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