標準簡介：本標準規(guī)定了半導體單晶晶向X射線衍射定向和光圖定向的方法。本標準適用于測定半導體單晶材料大致平行于低指數(shù)原子面的晶體的表面取向。

標準號：GB/T 1555-1997

標準名稱：半導體單晶晶向測定方法

英文名稱：Test methods for determining the orientation of a semiconductor single crystal

標準類型：國家標準

標準性質：推薦性

標準狀態(tài)：作廢

發(fā)布日期：1997-01-02

實施日期：1998-08-01

中國標準分類號（CCS）：冶金>>金屬理化性能試驗方法>>H21金屬物理性能試驗方法

國際標準分類號（ICS）：電氣工程>>29.045半導體材料

替代以下標準：替代GB 1555-1979;GB 1556-1979;GB 5254-1985;GB 5255-1985;GB 8759-1988;被GB/T 1555-2009代替

起草單位：峨嵋半導體材料廠

歸口單位：全國半導體材料和設備標準化技術委員會

發(fā)布單位：國家技術監(jiān)督局

檢測流程

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