標(biāo)準(zhǔn)簡介：本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了半導(dǎo)體x射線探測器系統(tǒng)和半導(dǎo)體x射線能譜儀主要特性的測量方法。本標(biāo)準(zhǔn)適用于半導(dǎo)體x射線探測器系統(tǒng)和半導(dǎo)體x射線能譜儀主要性能的測量。

標(biāo)準(zhǔn)號(hào)：GB/T 11685-2003

標(biāo)準(zhǔn)名稱：半導(dǎo)體X射線探測器系統(tǒng)和半導(dǎo)體X射線能譜儀的測量方法

英文名稱：Measurement procedures for semiconductor X-ray detector system and semiconductor X-ray energy spectrometers

標(biāo)準(zhǔn)類型：國家標(biāo)準(zhǔn)

標(biāo)準(zhǔn)性質(zhì)：推薦性

標(biāo)準(zhǔn)狀態(tài)：現(xiàn)行

發(fā)布日期：2003-07-07

實(shí)施日期：2004-01-01

中國標(biāo)準(zhǔn)分類號(hào)（CCS）：能源、核技術(shù)>>核儀器與核探測器>>F80核儀器與核探測器綜合

國際標(biāo)準(zhǔn)分類號(hào)（ICS）：能源和熱傳導(dǎo)工程>>核能工程>>27.120.01核能綜合

替代以下標(biāo)準(zhǔn)：GB/T 8992-1988 GB/T 11685-1989

起草單位：核工業(yè)標(biāo)準(zhǔn)化研究所

歸口單位：核工業(yè)標(biāo)準(zhǔn)化研究所

發(fā)布單位：國防科學(xué)技術(shù)工業(yè)委.

檢測流程

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